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摘要：本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为含有A树脂、B碱产生剂、及C有机溶剂，前述A树脂的重均分子量为3,000～10,000，前述A树脂是A‑1含有苯酚性羟基及苯酚性羟基被修饰的基团的树脂、或A‑2含有苯酚性羟基的树脂及含有苯酚性羟基被修饰的基团的树脂的混合物，当前述A树脂中含有的苯酚性羟基的比例为a、苯酚性羟基被修饰的基团的比例为b时，符合a+b＝1、0.1≤a≤0.5、0.5≤b≤0.9的关系。
主权项：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，是多层抗蚀剂法中使用的抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为：含有A树脂、B碱产生剂、及C有机溶剂，该A树脂的重均分子量为3,000～10,000，该A树脂，是A-1含有苯酚性羟基及苯酚性羟基被修饰的基团的树脂、或A-2含有苯酚性羟基的树脂及含有苯酚性羟基被修饰的基团的树脂的混合物，当该A树脂中含有的苯酚性羟基的比例为a、苯酚性羟基被修饰的基团的比例为b时，符合a+b＝1、0.1≤a≤0.5、0.5≤b≤0.9的关系。
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百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法
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