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用于将输入激光射束转换成具有在强度变化曲线中增加的均匀性的线状输出射束的光学装置 

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摘要:本发明涉及一种用于将输入激光射束18转换成具有增加的均匀性的强度分布的线状的输出射束12的光学装置20。本发明也涉及一种用于产生具有这种强度分布的线状的输出射束12的激光系统10,所述激光系统包括这种光学装置20。此外,本发明涉及一种用于控制在光学装置20中的两个透镜阵列38,40中的一个透镜阵列处的移位装置54的方法。

主权项:1.一种用于将输入激光射束18转换成线状的输出射束12的光学装置20,所述线状的输出射束沿着传播方向z传播,并且所述线状的输出射束在工作平面14中具有线状的、沿着线方向x延展的、具有非零强度的射束横截面,其中所述光学装置20具有:-改形光学工具22,所述改形光学工具具有输入孔34和输出孔36,所述输入激光射束18能够穿过所述输入孔入射,其中所述改形光学工具22构造为,使得穿过所述输入孔34入射的所述输入激光射束18转换成穿过所述输出孔36出射的、具有多个射束段的射束组24;-均匀化光学工具26和至少一个变换透镜机构30,其中所述均匀化光学工具26构造用于,沿着所述线方向x将所述射束组24的不同的射束段混匀,并且其中所述变换透镜机构30构造为,使得将混匀的射束段28叠加成所述线状的输出射束12,并且其中所述均匀化光学工具26包括第一透镜阵列38和在光路中连接在所述第一透镜阵列38后方的第二透镜阵列40,以及-移位装置54,所述移位装置具有执行器56,所述执行器能够根据主控制模式60由所述移位装置54的控制装置58控制,以使所述第二透镜阵列40相对于所述第一透镜阵列38移位,其特征在于,所述控制装置58具有至少一个附加控制模式62,64,66,所述至少一个附加控制模式配置用于至少部分地调整所述第二透镜阵列40的移位运动的可通过所述主控制模式60预设的目标频率和或目标幅度,以使所述线状的输出射束12均匀化。

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