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基板清洗装置及基板研磨装置 

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摘要:一种基板清洗装置及基板研磨装置。基板清洗装置设置于研磨装置,对研磨后的基板的表面进行清洗,研磨装置具备:具有进行基板研磨的研磨面的研磨台;及顶环,该顶环一边利用保持环围绕所述基板的外周部一边利用膜保持基板并将该基板向研磨面按压,基板清洗装置与顶环的清洗位置对应地设置。基板清洗装置具备第一喷射单元和第二喷射单元,第一喷射单元朝向位于清洗位置的基板喷射清洗液,第二喷射单元朝向位于清洗位置的基板喷射清洗液,在位于清洗位置的顶环的旋转方向上,第二喷射单元配置在第一喷射单元的下游侧或上游侧,构成第二喷射单元的喷射喷嘴朝向第一喷射单元倾斜。第二喷射单元朝向基板的外周部对从第一喷射单元喷射的清洗液施力。

主权项:1.一种基板清洗装置,设置于研磨装置,对研磨后的基板的表面进行清洗,所述研磨装置具备:研磨台,该研磨台具有进行基板研磨的研磨面;以及顶环,该顶环一边利用保持环围绕所述基板的外周部一边利用膜保持所述基板并将该基板向所述研磨面按压,其特征在于,所述顶环在研磨位置与交接位置之间移动自如,所述研磨位置是在所述研磨台的上方进行所述基板研磨的位置,所述交接位置是在所述研磨台的侧方进行所述基板的交接的位置,所述基板清洗装置与所述研磨位置和所述交接位置之间的清洗位置对应地设置,所述基板清洗装置具备第一喷射单元和第二喷射单元,所述第一喷射单元朝向位于所述清洗位置的所述基板喷射清洗液,所述第二喷射单元朝向位于所述清洗位置的所述基板喷射清洗液,在位于所述清洗位置的所述顶环的旋转方向上,所述第二喷射单元配置在所述第一喷射单元的下游侧或上游侧,来自所述第二喷射单元的清洗液朝向所述基板的外周部对从所述第一喷射单元喷射的清洗液施力。

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