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摘要：本发明涉及半导体工艺设备领域，更具体的说，涉及一种半导体工艺设备的进气装置。本发明提供的半导体工艺设备的进气装置，包括进气环：所述进气环，内部设置单层匀气道；所述单层匀气道，外侧设置若干个第一进气孔，用于通入气体；所述单层匀气道，内侧设置若干簇喷嘴，用于将气体喷出；其中，每一个进气孔与一簇喷嘴相对应，每一簇喷嘴的数量相等或不等。本发明提出的半导体工艺设备的进气装置，能够在不开启腔室的条件下，精确且高效地实现对局部反应气体流量的控制与调节，有效地解决了在工艺开发过程中，因频繁调整喷嘴口径而必须不断开关腔室所导致的问题，显著提升了设备的整体稳定性与可靠性。
主权项：1.一种半导体工艺设备的进气装置，其特征在于，包括进气环：所述进气环，内部设置单层匀气道；所述单层匀气道，外侧设置若干个第一进气孔，用于通入气体；所述单层匀气道，内侧设置若干簇喷嘴，用于将气体喷出；其中，每一个进气孔与一簇喷嘴相对应，每一簇喷嘴的数量相等或不等。
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百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 一种半导体工艺设备的进气装置
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