龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本发明涉及一种使用区域选择性原子层沉积法的薄膜的选择性沉积方法及选择性形成薄膜的基板，更具体而言，涉及通过使用有机硫醇小分子抑制剂来在包括如铜Cu等的金属的基板、包括二氧化硅SiO2的基板及包括如氮化钛TiN等的氮化物的基板的表面上形成具有不同厚度的薄膜的使用区域选择性原子层沉积法的薄膜的选择性沉积方法及选择性形成薄膜的基板。
主权项：1.一种使用区域选择性原子层沉积法的薄膜的选择性沉积方法，其特征在于，包括：第一步骤，准备将包括金属的第一基板、包括二氧化硅的第二基板及包括氮化物的第三基板平行排列而一体化的基板；第二步骤，使上述基板暴露于有机硫醇小分子抑制剂；及第三步骤，使用区域选择性原子层沉积法在暴露于上述有机硫醇小分子抑制剂的基板表面上形成薄膜；其中，形成在上述第一基板表面上的薄膜的厚度、形成在第二基板表面上的薄膜的厚度及形成在第三基板表面上的薄膜的厚度不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 仁川大学校产学协力团 使用原子层沉积法的薄膜的区域选择性沉积方法以及选择性形成薄膜的基板
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号