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摘要：本发明提供一种表面层以及表面层形成用材料。一种表面层，其至少包含组分A和组分B，该组分A具有含有硅氧烷键的硅氧烷基团，该组分B是烷基化合物，该烷基化合物具有有机基团且具有由下述通式3表示的结构，该有机基团具有选自由饱和烃键、不饱和烃键、碳氧双键以及碳氮双键组成的组中的至少一种键，由该Y所示的基团含有规定的基团，该表面层中的组分B相对于组分A的组成比为0.04～3.00。R3‑Y‑R43。
主权项：1.一种表面层，其至少包含组分A和组分B，其特征在于，该组分A具有含有硅氧烷键的硅氧烷基团，该组分B是烷基化合物，该烷基化合物具有有机基团且具有由下述通式3表示的结构，该有机基团具有选自由饱和烃键、不饱和烃键、碳氧双键以及碳氮双键组成的组中的至少一种键，R3-Y-R43由该Y所示的基团包含1个以上含有选自由[CiH2i-2]j1、[CiH2i]j2、[C6H4]j3、[Ci+1H2i-1Cl]j4、[CiHiCl]j5、[C5H4O3]j6、[C3H6N]j7以及[C4H6O2N]j8组成的组中的至少一种键的基团，该i、j1、j2、j3、j4、j5、j6、j7以及j8满足32≤i×j1+j2+j3+j4+j5+j6+j7+j8≤750，该j1、j2、j3、j4、j5、j6、j7以及j8分别独立地为0以上的整数，该i在每个该基团中分别独立地为1以上的整数，该R3以及该R4分别独立地为水解基团、硅烷醇基、羟基、反应性有机基团、包含含有水解基团的甲硅烷基的有机基团、烷基甲硅烷基或者氢原子，该表面层中的组分B相对于组分A的组成比为0.04～3.00。
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百度查询： 佳能奥普特龙株式会社 表面层、光学部件、眼镜以及表面层形成用材料
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