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摘要：本发明关于用以决定要引入光刻掩模100，300的基板110，310的一个或多个像素的效应的方法，光刻掩模100，300具有一个或多个图案元件120，360，其中一个或多个像素用以至少部分地校正光刻掩模100，300的一个或多个误差190，390，所述方法包含：通过决定具有一个或多个图案元件120，360的光刻掩模100，300的基板110，310的双折射变化来决定一个或多个引入像素的效应。
主权项：1.一种用以决定要引入光刻掩模100,300的基板110,310的一个或多个像素的效应的方法，该光刻掩模100,300具有一个或多个图案元件120,360，其中一个或多个像素用以至少部分地校正该光刻掩模100,300的一个或多个误差190,390，该方法包含：通过决定具有该一个或多个图案元件120,360的该光刻掩模100,300的该基板110,310的双折射变化来决定该一个或多个像素的效应，其中决定该一个或多个像素的效应包含决定该双折射变化为用以将该一个或多个像素引入至该光刻掩模100,300的该基板110,310的激光系统730的至少一个激光光束参数的函数，其中决定该双折射变化包含使用透射光学双折射测量系统，该透射光学双折射测量系统使用的波长大于光化波长；通过根据一个或多个激光光束参数来决定将一个或多个像素引入该基板的应力所引起的双折射的改变或变化，决定用以控制像素写入程序的校准曲线。
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百度查询： 卡尔蔡司SMS有限公司 决定要引入光刻掩模的基板的一个或多个像素的效应的方法和设备
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