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摘要:根据本发明一观点的种基板处理方法,利用基板处理装置,基板处理装置包括:工艺腔室,在内部限定处理空间;基板支撑架,设置在工艺腔室以在上部安装基板;气体喷射部,在处理空间内向基板支撑架上供应工艺气体;远程等离子体发生器,连接于工艺腔室。所述基板处理方法包括如下的步骤:在基板支撑架上安装基板;通过远程等离子体发生器将表面处理气体连续供应于基板支撑架上的基板上;将吹扫气体连续供应于基板支撑架上的基板上;对远程等离子体发生器供应等离子电源,以激活表面处理气体来供应于基板上;及切断对远程等离子体发生器供应的等离子电源,将蚀刻气体供应于基板支撑架上的基板上。
主权项:1.一种基板处理方法,作为利用基板处理装置的基板处理方法,所述基板处理装置包括工艺腔室、基板支撑架、气体喷射部、第一进气线、第二进气线及配置在所述工艺腔室外部且与所述工艺腔室连接的远程等离子体发生器,所述工艺腔室在内部限定处理空间,所述基板支撑架设置在所述工艺腔室以在上部安装基板,所述气体喷射部在所述处理空间内向所述基板支撑架上供应工艺气体,所述远程等离子体发生器连接于所述工艺腔室,其特征在于,包括如下的步骤:在所述基板支撑架上安装基板;通过所述远程等离子体发生器将表面处理气体连续供应于所述基板支撑架上的所述基板上;将吹扫气体连续供应于所述基板支撑架上的所述基板上;对所述远程等离子体发生器供应等离子电源,以在所述远程等离子体发生器内激活所述表面处理气体,使激活的表面处理气体以自由基的形式供应到所述基板上;及切断对所述远程等离子体发生器供应的等离子电源,将蚀刻气体供应于所述基板支撑架上的所述基板上,在供应所述表面处理气体及吹扫气体之前,包括将所述蚀刻气体预先供应于基板上的步骤,其中,所述表面处理气体通过所述第二进气线供应到所述远程等离子体发生器内,在所述远程等离子体发生器内激活后供应到所述处理空间,所述蚀刻气体通过所述第一进气线直接供应到所述处理空间,所述吹扫气体通过所述第二进气线经过所述远程等离子体发生器供应到所述处理空间或者通过所述第一进气线直接供应到所述处理空间。
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百度查询: 圆益IPS股份有限公司 基板处理方法
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