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摘要：本实用新型提供了金属硅化物阻挡层与接触孔的测试结构及多组测试结构，包括：呈预设间距排布的若干条状的第一结构；位于第一结构上的金属硅化物阻挡层，金属硅化物阻挡层呈矩形状、且金属硅化物阻挡层长边的沿向与第一结构相垂直，沿长边的金属硅化物阻挡层完全覆盖若干第一结构，沿短边的金属硅化物阻挡层位于第一结构内；位于第一结构上的第一链条接触孔和第二链条接触孔，第一链条接触孔和第二链条接触孔分别位于沿短边的金属硅化物阻挡层两侧；通过设置金属硅化物阻挡层与第一链条接触孔间的距离小于预设距离，且金属硅化物阻挡层与第二链条接触孔间的距离大于等于预设距离，实现对金属硅化物阻挡层和第一链条接触孔的间距偏移进行检测。
主权项：1.一种金属硅化物阻挡层与接触孔的测试结构，所述金属硅化物阻挡层与接触孔的测试结构设置于晶圆的切割道内，其特征在于，该测试结构包括：呈预设间距排布的若干条状的第一结构；位于所述第一结构上的金属硅化物阻挡层，所述金属硅化物阻挡层呈矩形状、且所述金属硅化物阻挡层长边的沿向与所述第一结构相垂直，沿长边的所述金属硅化物阻挡层完全覆盖若干所述第一结构，沿短边的所述金属硅化物阻挡层位于所述第一结构内；位于所述第一结构上的第一链条接触孔和第二链条接触孔，所述第一链条接触孔和所述第二链条接触孔分别位于沿短边的所述金属硅化物阻挡层两侧；所述第一链条接触孔距所述金属硅化物阻挡层的距离小于预设距离；所述第二链条接触孔距所述金属硅化物阻挡层的距离大于等于预设距离；所述第一链条接触孔的两端由第一测试引脚和第三测试引脚引出，所述第二链条接触孔的两端由第二测试引脚和第四测试引脚引出；所述第二链条接触孔两端测得的接触孔的阻值作为所述第一链条接触孔阻值的参考；所述预设距离用于表征所述金属硅化物阻挡层和所述第一链条接触孔的最小安全距离。
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