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摘要：掩模清洗装置包括：收纳部，设置在腔室的内部且用于收容掩模；等离子体产生部，用于向腔室供给包括自由基的等离子体；以及气体供给部，用于向等离子体产生部供给气体，该掩模清洗装置能够防止掩模的损伤，并且提高掩模清洗效率。
主权项：1.一种掩模清洗装置，其特征在于，包括：收纳部，设置在腔室的内部且用于收容掩模；等离子体产生部，用于向所述腔室供给包括自由基的等离子体；以及气体供给部，用于向所述等离子体产生部供给气体。
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