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摘要：本实用新型涉及一种晶元体生长用双循环冷却装置，包括环形本体，以及设置在所述环形本体内部的环状送气道和环状冷却水道，在所述环形本体上设有和所述环状送气道连通的气体循环管路，在所述环形本体上设有和所述环状冷却水道连通的进水口和出水口，在所述环状冷却水道内设有截流部；在所述环形本体的圆周方向，所述进水口位于所述截流部的其中一侧外侧，所述出水口位于所述截流部的另一侧外侧。本申请优点：本申请利用在环状冷却水道中设置截流部，从根本上改变了环状冷却水道内部的水流流向，使得冷却水最大程度的流经整个装置内部，增大了环状冷却水道的冷却面积，各个区域的温度均匀，从而提高装置的晶元体生长加工效率。
主权项：1.晶元体生长用双循环冷却装置，包括环形本体1，以及设置在所述环形本体1内部的环状送气道2和环状冷却水道3，在所述环形本体1上设有和所述环状送气道2连通的气体循环管路200，在所述环形本体1上设有和所述环状冷却水道3连通的进水口30和出水口31，其特征在于，在所述环状冷却水道3内设有截流部32；在所述环形本体1的圆周方向，所述进水口30位于所述截流部32的其中一侧外侧，所述出水口31位于所述截流部32的另一侧外侧。
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百度查询： 浙江蔚福科技股份有限公司 晶元体生长用双循环冷却装置
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