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申请/专利权人：嘉兴市小辰光伏科技有限公司
申请日：2024-12-02
公开（公告）日：2024-12-31
公开（公告）号：CN119220184A
专利技术分类：.水性分散剂（C09G1/02优先）[2006.01]
专利摘要：一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法，涉及单晶硅刻蚀技术领域，包括以下组分：反应促进剂、缓蚀阻垢剂、PH调节剂、脱泡剂、1,3‑双2‑羟基乙基‑2‑咪唑啉酮、2,5‑呋喃二甲醇、喹啉黄、甘草酸钠、三聚氰胺、羟丙基壳聚糖和去离子水。该添加剂低减重下的碱抛光效果好、效率高，稳定性佳，抛光面外观良好，对太阳能电池的光转换效率的增益作用明显。
专利权项：1.一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂，其特征在于，包括按质量百分比计算的以下组分：反应促进剂0.5wt%-1wt%、缓蚀阻垢剂1wt%-3wt%、PH调节剂2wt%-4wt%、脱泡剂0.05wt%-1wt%、1,3-双2-羟基乙基-2-咪唑啉酮0.05wt%-0.15wt%、2,5-呋喃二甲醇0.03wt%-0.12wt%、喹啉黄0.01wt%-0.06wt%、甘草酸钠0.01wt%-0.05wt%、三聚氰胺0.06wt%-0.11wt%、羟丙基壳聚糖0.04wt%-0.1wt%，余量为去离子水。
百度查询： 嘉兴市小辰光伏科技有限公司 一种用于单晶硅快速抛光的碱抛光添加剂及其使用方法
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