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申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日：2023-06-01
公开（公告）日：2025-01-17
公开（公告）号：CN119325574A
专利技术分类：...检查[2012.01]
专利摘要：照明光学单元1是与EUV照明光3一起使用的掩模检查系统的一部分。中空波导11用于引导照明光3。针对照明光3，中空波导11具有在入射平面13中的入射开口12和在出射平面14中的出射开口14。输入耦合反射镜光学单元10设置在照明光3的光路中的中空波导11的上游并且具有至少一个反射镜IL1，其用于将EUV光源5的源区6成像到中空波导11的入射开口12中。输出耦合反射镜光学单元16用于将中空波导11的出射开口14成像到照明场4中。由此可得到一种对于EUV照明光的利用效率进行了优化的照明光学单元。
专利权项：1.一种与EUV照明光3配合使用的掩模检查系统的照明光学单元1，-包括中空波导11，其用于引导该照明光3并且具有用于该照明光3的入射开口12，该入射开口指定该中空波导11的入射平面13，并且具有用于该照明光3的出射开口14，该出射开口指定该中空波导11的出射平面15，-包括输入耦合反射镜光学单元10；22，其设置在该照明光3的光路中的该中空波导11的上游并且具有至少一个反射镜IL1；IL1a、IL1b，其用于将EUV光源5的源区6成像至该中空波导11的该入射开口12中，-包括输出耦合反射镜光学单元16，其将该中空波导12的该出射开口14成像至照明场4中。
百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 与EUV照明光配合使用的掩模检查系统的照明光学单元
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