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带有半λ介电层的横向激励的薄膜体声学谐振器专利

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申请/专利权人:株式会社村田制作所

申请日:2020-03-16

公开(公告)日:2025-01-17

公开(公告)号:CN119324690A

专利技术分类:..具有单个谐振器(晶体调谐音叉入H03H9/21)[2006.01]

专利摘要:公开了声学谐振器器件和滤波器。一种声学谐振器器件,包括:一基板,具有一表面;一单晶压电板,具有正面和背面,所述背面附接到所述基板的表面上,除了一部分的压电板未附接到所述基板的表面上,其中这部分的压电板形成了隔膜,所述隔膜跨越所述基板中的腔。一叉指换能器IDT,在所述单晶压电板的正面上形成,使得IDT的交错指状物设置在所述隔膜上。所述压电板和IDT配置为使得施加到IDT的射频信号激励所述隔膜中的剪切主声模。一半λ介电层,在所述压电板的正面和背面中的其中一面上形成。

专利权项:1.一种声学谐振器器件,包括:基板;压电板,直接或通过一个或多个中间层附接到所述基板;叉指换能器,在所述压电板上,使得所述叉指换能器的交错指状物设置在所述压电板上;以及介电层,在所述压电板上;其中,所述压电板的厚度ts和所述介电层的厚度td定义如下:2ts=λ0,s,和0.85λ0,d≤2td≤1.15λ0,d,其中,λ0,s是所述压电板中体声波谐振的波长。

百度查询: 株式会社村田制作所 带有半λ介电层的横向激励的薄膜体声学谐振器

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