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申请/专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日：2024-12-20
公开（公告）日：2025-01-21
公开（公告）号：CN119334233A
专利技术分类：..专用于物体移动时计量其长度或宽度[2006.01]
专利摘要：本发明提供一种壁厚均匀度测量装置，包括位移平台、相对于位移平台的位移部分固定安装的测试工装、设于测试工装下表面的电容式传感器和霍尔探头、布置于霍尔探头上表面的永磁铁磁柱、以及分体式磁珠。本发明的壁厚均匀度测量装置属于半接触式测量，可以在测量位置受限的情况下有效检测出壁厚均匀度，尤其适用于内部空间长且狭窄的小孔径真空室腔体的壁厚均匀度，其次，也便于测量薄片尤其是长度较长的薄片的壁厚均匀度。
专利权项：1.一种壁厚均匀度测量装置，其特征在于，包括位移平台、相对于位移平台的位移部分固定安装的测试工装、设于测试工装下表面的电容式传感器和霍尔探头、布置于霍尔探头上表面的永磁铁磁柱、以及分体式磁珠。
百度查询： 中国科学院上海高等研究院 一种壁厚均匀度测量装置
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