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申请/专利权人：中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室))
申请日：2024-12-25
公开（公告）日：2025-01-24
公开（公告）号：CN119355012A
专利技术分类：..并形成材料的图片[2018.01]
专利摘要：本发明公开了一种基于平面X射线探测的缺陷定位方法和计算机设备，所述方法包括：将待测器件固定于平面X射线探测设备上，待测器件的长、宽、高分别对应于坐标系的X、Y、Z轴，利用平面X射线对待测器件进行一次探测成像，获取缺陷在X、Y轴方向上的一次位置坐标；使器件的长边一侧翘起一定角度，利用平面X射线对待测器件进行二次探测成像，获取缺陷在X、Y轴方向上的二次位置坐标；根据Y轴方向上的一次位置坐标和二次位置坐标以及器件翘起角度，计算得到缺陷在Z轴方向上的坐标。本发明采用平面X射线探测就能精准三维定位待测器件的内部缺陷，能够实现测试速度更快、经济成本更低的三维缺陷定位。
专利权项：1.一种基于平面X射线探测的缺陷定位方法，其特征在于，包括：步骤S1，将待测器件固定于平面X射线探测设备上，待测器件的长、宽、高分别对应于坐标系的X、Y、Z轴，利用平面X射线对待测器件进行一次探测成像，获取缺陷在X、Y轴方向上的一次位置坐标（X0，Y0）；步骤S2，使器件的长边一侧翘起一定角度α，利用平面X射线对待测器件进行二次探测成像，获取缺陷在X、Y轴方向上的二次位置坐标（X0，Y1）；步骤S3，根据Y轴方向上的一次位置坐标Y0和二次位置坐标Y1以及器件翘起角度α，计算得到缺陷在Z轴方向上的坐标Z0：Z0=Y0tanα-Y1sinα。
百度查询： 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室)) 一种基于平面X射线探测的缺陷定位方法和计算机设备
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