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申请/专利权人：浙江怡钛积科技有限公司
申请日：2024-12-26
公开（公告）日：2025-01-24
公开（公告）号：CN119360753A
专利技术分类：..为半导体装置，例如二极管[2006.01]
专利摘要：本发明公开了一种有机发光二极管显示器及其圆偏光复合膜湿法工艺制备方法，包括圆偏光复合膜，圆偏光复合膜的制备方法如下：步骤一：将光配向溶液均匀涂布于承载层上并形成光配向层；步骤二：将液晶溶液均匀涂布于光配向层上；步骤三：将反射型线偏光片粘接于位相差层上并压合；步骤四：制备低折涂料，将低折涂料涂布于位相差膜的一侧，并经过干燥和固化后形成低折涂层；步骤五：将吸收型线偏光片粘接于反射型线偏光片的一侧；步骤六：将吸收型线偏光片远离反射型线偏光片的一侧与镜片玻璃粘合。本发明通过液晶材质的位相差层代替传统由高分子膜材拉伸制备的位相差膜，并在位相差膜的一侧设置低折涂层，有效减轻或消除重影和干涉彩纹问题。
专利权项：1.一种有机发光二极管显示器，其特征在于，包括圆偏光复合膜，所述圆偏光复合膜依次包括低折涂层、位相差层、反射型线偏光片、吸收型线偏光片、镜片玻璃；所述圆偏光复合膜的湿法工艺制备方法包括如下具体步骤：步骤一：将光配向溶液均匀涂布于承载层上并形成光配向层；步骤二：将液晶溶液均匀涂布于光配向层上并由光配向层进行配向得到位相差层，位相差层的干膜厚度为0.5-5微米；然后将配向层从位相差层上分离；步骤三：在位相差层上涂布胶黏剂，将反射型线偏光片置于位相差层上并压合，得到反射型线偏光片-位相差层复合结构；步骤四：制备低折涂料，将低折涂料均匀涂布于位相差膜上远离反射型线偏光片的一侧，并经过干燥和紫外光固化后形成低折涂层；步骤五：通过胶黏剂将吸收型线偏光片粘接于反射型线偏光片远离位相差层的一侧上并压合，得到吸收型线偏光片-反射型线偏光片-位相差层复合结构；步骤六：将吸收型线偏光片远离反射型线偏光片的一侧通过胶黏剂与镜片玻璃粘合。
百度查询： 浙江怡钛积科技有限公司 一种有机发光二极管显示器及其圆偏光复合膜湿法工艺制备方法
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