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龙图腾网恭喜上海芯物科技有限公司申请的专利一种旋转结构的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113307224B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-09-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110582001.1，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种旋转结构的制备方法是由刘京;焦继伟;费跃;陈思奇设计研发完成，并于2021-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种旋转结构的制备方法在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种旋转结构的制备方法，包括：提供衬底和掩膜版，掩膜版包括第一曝光口和第二曝光口；通过掩膜版对所述衬底进行掩模曝光的同时匀速移动衬底，以在衬底上形成斜坡结构，斜坡结构包括第一斜坡面和第二斜坡面；制备可旋转结构和电极结构，电极结构包括第一电极和第二电极，第一电极与斜坡结构电连接，第二电极与可旋转结构电连接，可旋转结构用于根据第一电极和第二电极之间的静电力进行旋转。利用移动光刻的方法制备斜坡结构，斜坡结构制备简单，解决现有技术中通过多次光刻工艺制备斜坡结构工艺复杂的技术问题；同时利用移动光刻的方法制备斜坡结构时，斜坡结构的倾斜角度可调，斜坡结构制备灵活。

本发明授权一种旋转结构的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种旋转结构的制备方法，用于制备静电驱动的旋转结构，其特征在于，所述旋转结构包括斜坡结构和可旋转结构；所述制备方法包括：提供衬底和掩膜版，所述掩膜版包括第一曝光口和第二曝光口；通过所述掩膜版对所述衬底进行掩模曝光的同时匀速移动所述衬底，以在所述衬底上形成斜坡结构，所述斜坡结构包括第一斜坡面和第二斜坡面；制备可旋转结构和电极结构，所述电极结构包括第一电极和第二电极，所述第一电极与所述斜坡结构电连接，所述第二电极与所述可旋转结构电连接，所述可旋转结构用于根据所述第一电极和所述第二电极之间的静电力进行旋转；通过所述掩膜版对所述衬底进行掩模曝光的同时匀速移动所述衬底，以在所述衬底上形成斜坡结构，包括：在所述衬底一侧制备第一氧化层并对所述第一氧化层进行图案化，所述第一氧化层暴露所述斜坡结构的制备区域；在所述第一氧化层远离所述衬底一侧以及所述第一氧化层暴露区域制备光刻胶；通过所述掩膜版对所述光刻胶进行掩模曝光的同时匀速移动所述衬底，以在所述光刻胶上形成光刻胶斜坡结构；通过所述光刻胶斜坡结构对所述衬底进行刻蚀，以在所述衬底上形成斜坡结构；在所述衬底一侧制备第一氧化层并对所述第一氧化层进行图案化之前还包括：在所述衬底一侧制备氧化保护层并图案化所述氧化保护层，所述氧化保护层覆盖所述斜坡结构的制备区域；对所述氧化保护层暴露的区域进行热氧化处理，所述氧化保护层暴露的区域形成氧化结构；去除所述氧化保护层和所述氧化结构，以使所述斜坡结构的制备区域的表面高于所述斜坡结构的非制备区域。

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