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龙图腾网恭喜上海探跃半导体设备有限公司申请的专利复合型掩膜版获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN221993765U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2024-11-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420603737.1，技术领域涉及：G03F1/42；该实用新型复合型掩膜版是由梁宇辰;李华设计研发完成，并于2024-03-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本复合型掩膜版在说明书摘要公布了：本实用新型属于掩膜版加工技术领域，尤其涉及一种复合型掩膜版。该复合型掩膜版包括板体、对版标记和图案块，板体设置为方形；对版标记间隔设于板体上，对版标记包括第一标记集和第二标记集，用于与不同型号的光刻机对位；图案块间隔设于板体上，图案块包括共用图案块、第一图案集和第二图案集，共用图案块设于板体的几何中心，共用图案块能选择性地与第一图案集或第二图案集组合成不同的测试图案集，以测定不同型号的光刻机的视场倾角。通过将第一标记集和第二标记集集成在同一个板体上，使用共用图案块与第一图案集或第二图案集组合成不同的测试图案集，以测定不同型号的光刻机的视场倾角，简化了测定光刻机视场倾角的流程，提高了测定效率。

本实用新型复合型掩膜版在权利要求书中公布了：1.复合型掩膜版，其特征在于，包括：板体10，所述板体10设置为方形；对版标记，所述对版标记间隔设于所述板体10上，所述对版标记包括第一标记集和第二标记集，用于与不同型号的光刻机对位；图案块，所述图案块间隔设于所述板体10上，所述图案块包括共用图案块31、第一图案集和第二图案集，所述共用图案块31设于所述板体10的几何中心，所述共用图案块31能选择性地与所述第一图案集或所述第二图案集组合成不同的测试图案集，以测定不同型号的所述光刻机的视场倾角。

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