恭喜苏州迈为科技股份有限公司董刚强获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州迈为科技股份有限公司申请的专利一种异质结太阳能电池的制备方法及异质结太阳能电池获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118712286B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410948479.5,技术领域涉及:H10F71/10;该发明授权一种异质结太阳能电池的制备方法及异质结太阳能电池是由董刚强;龚志清;周剑;李强;孙松设计研发完成,并于2024-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种异质结太阳能电池的制备方法及异质结太阳能电池在说明书摘要公布了:本发明提供了一种异质结太阳能电池的制备方法及异质结太阳能电池,涉及太阳能电池制备技术领域。本发明的异质结太阳能电池的制备方法可以包括提供一基底,在基底两侧制备第一钝化层、第一掺杂层、第一透明导电层、第二钝化层、第二掺杂层、第二透明导电层,在第二透明导电层上进行刻蚀形成隔离区,并在第二掺杂层上与隔离区对应位置进行刻蚀,将第一透明导电层和第二透明导电层进行隔离避免电池短路。本发明的隔离区的宽度小于0.3mm,使得该制备方法制备得到的太阳能电池既做到了避免短路,又使得该电池尽可能的减小刻蚀的面积,充分利用基底面积,提高相同基底面积下电池效率。
本发明授权一种异质结太阳能电池的制备方法及异质结太阳能电池在权利要求书中公布了:1.一种异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括:提供一基底;在所述基底的正面形成覆盖所述基底正面的第一钝化层和覆盖所述第一钝化层的第一掺杂层,在所述基底的背面形成覆盖所述基底的第二钝化层和覆盖所述第二钝化层的第二掺杂层;在所述第一掺杂层和所述第二掺杂层上形成覆盖所述第一掺杂层的第一透明导电层和覆盖所述第二掺杂层的第二透明导电层;通过刻蚀工艺在所述第二透明导电层和所述第二掺杂层上形成隔离区;所述刻蚀工艺包括采用滚轮涂覆的方式在所述第二透明导电层上涂覆刻蚀浆料,利用所述刻蚀浆料进行刻蚀;所述滚轮的轴心偏向所述基底所在平面的需要涂覆所述刻蚀浆料的一侧;所述基底具有倒角,所述滚轮的两端设置成与所述倒角形状匹配的形状,在所述基底的四周边缘和倒角处涂覆刻蚀浆料,通过所述刻蚀浆料对所述第二透明导电层进行刻蚀形成封闭的隔离区,进而将所述第一透明导电层和所述第二透明导电层进行隔离;或者所述刻蚀工艺包括采用丝网印刷的方式在所述第二透明导电层上印刷刻蚀浆料,利用所述刻蚀浆料进行刻蚀;在采用丝网印刷的方式在所述第二透明导电层上印刷刻蚀浆料之前还包括:在形成所述第二透明导电层时,利用载板的承载部作为掩膜,形成未镀所述第二透明导电层的非镀膜区;其中,所述非镀膜区与待丝网印刷的区域至少部分重叠;通过所述刻蚀浆料对所述第二透明导电层进行刻蚀形成封闭的隔离区,进而将所述第一透明导电层和所述第二透明导电层进行隔离。
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