台湾积体电路制造股份有限公司陈品成获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利光刻系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222690051U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420958618.8，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型光刻系统是由陈品成;唐存正;严国志设计研发完成，并于2024-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻系统在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种光刻系统包括：顶部部分；设置在所述顶部部分的掩膜台；底部部分；位于所述底部部分的护膜台；以及安装于所述掩膜台的第二光学检测器，所述第二光学检测器面向所述护膜台。光刻系统可以经由光学检测器侦测粒子，这降低了重工并提高了利用率。
本实用新型光刻系统在权利要求书中公布了：1.一种光刻系统，其特征在于，包括：顶部部分；设置在所述顶部部分的掩膜台；底部部分；位于所述底部部分的护膜台；以及安装于所述掩膜台的第二光学检测器，所述第二光学检测器面向所述护膜台。
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