恭喜思特威(上海)电子科技股份有限公司王文轩获国家专利权
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龙图腾网恭喜思特威(上海)电子科技股份有限公司申请的专利图像传感器及电子设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN222692219U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202420369225.3，技术领域涉及：H10F39/12；该实用新型图像传感器及电子设备是由王文轩;谭炳辉设计研发完成，并于2024-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本图像传感器及电子设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种图像传感器、电子设备，制备方法包括在半导体基底中通过不同的步骤形成第一沟槽和第二沟槽，并基于不同的工艺步骤在第一沟槽中形成吸光材料层，在第二沟槽中形成透光材料层。本实用新型的结构及工艺可以同时兼顾相同颜色高感光度和不同信号间的低串扰，提高器件制备的灵活性，并有利于对应结构性能的优化，在保证各结构性能的基础上可以简化包含吸收材料层和透光材料层的图像传感器制备的工艺步骤，不同步骤的设计还可以拓宽其应用领域，提高图像质量，此外，本申请的设计还可以在相位对焦像素单元中，在对焦功能实现的基础上有利于提高像素合并的准确性。
本实用新型图像传感器及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种图像传感器，其特征在于，所述图像传感器包括：半导体基底，所述半导体基底包括第一掺杂类型的器件功能层；半导体器件，位于所述器件功能层中，所述半导体器件包括具有与所述第一掺杂类型不同的第二掺杂类型的光电转换元件；第一沟槽和第二沟槽，分别设置于所述器件功能层中，且所述第一沟槽和所述第二沟槽制备于相邻的所述半导体器件之间；改性辅助膜层及吸光材料层，依次设置于所述第一沟槽表面；以及改性功能膜层及透光材料层，依次设置于所述第二沟槽表面。
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