恭喜西安奕斯伟材料科技股份有限公司贺云鹏获国家专利权
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龙图腾网恭喜西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请的专利静压垫、研磨设备及硅片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116475934B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310340475.4，技术领域涉及：B24B37/08；该发明授权静压垫、研磨设备及硅片是由贺云鹏;王贺设计研发完成，并于2023-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本静压垫、研磨设备及硅片在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种静压垫、研磨设备及硅片，静压垫用于在硅片双面研磨设备中成对地夹持硅片的两侧，静压垫包括基板、调节板和驱动模块，基板具有朝向硅片的固定平面；调节板通过驱动模块安装在固定平面上，调节板具有朝向硅片的第一平面，第一平面用于通过流体向硅片提供静压力以对硅片一侧进行非接触地支撑；驱动模块用于驱动调节板发生倾斜，驱动模块经配制成当第一平面不与硅片所在的目标平面平行时，驱动模块驱动调节板倾斜，以使得第一平面与目标平面平行。通过实时调整静压垫与硅片的间距，确保研磨过程的稳定性，提升产品品质。
本发明授权静压垫、研磨设备及硅片在权利要求书中公布了：1.一种静压垫，所述静压垫用于在硅片双面研磨设备中成对地夹持所述硅片的两侧，其特征在于，所述静压垫包括基板、调节板和驱动模块：所述基板具有朝向所述硅片的固定平面；所述调节板通过所述驱动模块安装在所述固定平面上，所述调节板具有朝向所述硅片的第一平面，所述第一平面用于通过流体向所述硅片提供静压力以对所述硅片一侧进行非接触地支撑；所述驱动模块用于驱动所述调节板发生倾斜，所述驱动模块经配制成当所述第一平面不与所述硅片所在的目标平面平行时，所述驱动模块驱动所述调节板倾斜，以使得所述第一平面与所述目标平面平行。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西安奕斯伟材料科技股份有限公司，其通讯地址为：710065 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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