恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司韩春营获国家专利权
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龙图腾网恭喜东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利晶圆双边缘检测方法和装置及设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114913112B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110180277.7,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权晶圆双边缘检测方法和装置及设备是由韩春营;杨彩虹;李强;俞宗强设计研发完成,并于2021-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆双边缘检测方法和装置及设备在说明书摘要公布了:本申请涉及一种晶圆双边缘检测方法和装置及设备,方法包括:读取当前待检测的晶圆图像;计算晶圆图像的图像灰度直方图分布,基于图像灰度直方图分布确定二值化阈值;采用确定的二值化阈值对晶圆图像进行二值化处理,得到相应的二值化图像;查找出二值化图像中的各连通区域,并对各连通区域进行筛选,根据筛选结果确定晶圆图像的边缘。通过在晶圆边缘检测时,基于图像灰度直方图分布确定二值化阈值,然后根据所确定的二值化阈值对晶圆图像进行二值化处理,进而再在二值化图像中进行连通区域的筛选来实现边缘检测的目的。相较于相关技术中,采用固定区域或采用最大类间方差法的变化阈值进行图像二值化处理的方式,有效提高了边缘检测的准确率。
本发明授权晶圆双边缘检测方法和装置及设备在权利要求书中公布了:1.一种晶圆双边缘检测方法,其特征在于,包括:读取当前待检测的晶圆图像;计算所述晶圆图像的图像灰度直方图分布,基于所述图像灰度直方图分布确定二值化阈值;采用确定的所述二值化阈值对所述晶圆图像进行二值化处理,得到相应的二值化图像;查找出所述二值化图像中的各连通区域,并根据各所述连通区域的区域面积进行筛选,基于轮廓凹距分布,对根据各所述连通区域的区域面积进行筛选后保留的连通区域进行再次筛选以确定所述晶圆图像的边缘;所述基于轮廓凹距分布,对根据各所述连通区域的区域面积进行筛选后保留的连通区域进行再次筛选以确定所述晶圆图像的边缘,包括:计算所述连通区域的轮廓线的凹点;对计算得到的所述连通区域的轮廓线的凹点进行统计,得到相应的所述轮廓凹距分布;根据所述轮廓凹距分布,由根据各所述连通区域的区域面积进行筛选后保留的连通区域中筛选出最匹配的连通区域,并确定筛选出的最匹配的连通区域的轮廓线为所述晶圆图像的边缘。
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