恭喜北京航空航天大学合肥创新研究院韩登宝获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京航空航天大学合肥创新研究院申请的专利色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114664998B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011533570.9，技术领域涉及：H10H29/851；该发明授权色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件是由韩登宝;钟海政;蒋盛超设计研发完成，并于2020-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件在说明书摘要公布了：本发明中公开了一种色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件，该色转换基板由色转换基板包括：衬底基板、包括黑矩阵层和反光涂层的复合涂层、设于所述复合涂层所在的衬底基板表面且贯通所述复合涂层的凹槽阵列、以及填充于所述凹槽阵列内且与所述衬底基板表面贴合的色转换膜层。该色转换基板具有挡墙膜厚高、反光率高、出光效率高，工艺及设备成本低的优点。
本发明授权色转换基板及其制作方法、颜色转换显示器件在权利要求书中公布了：1.一种色转换基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一衬底基板；形成复合涂层：在所述衬底基板的其中一面涂覆黑矩阵材料，形成黑矩阵层，在所述黑矩阵层表面涂覆反光涂层浆料，形成反光涂层；采用紫外激光技术刻蚀所述复合涂层，在所述衬底基板上形成凹槽阵列，所述采用紫外激光的具体参数为：激光器波长在193~365nm，功率3~20W，脉冲重复频率为30~120KHz，激光的光斑尺寸选自5~40μm，刻蚀孔的尺寸为20~1000μm；将量子点胶液填充在所述凹槽阵列中，待胶液溶剂挥发后，形成色转换膜层；其中，所述反光涂层的厚度在20-150μm；所述凹槽阵列的厚度＞20μm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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