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龙图腾网恭喜安徽大学;合肥晶合集成电路股份有限公司申请的专利用于金属填充质量检测的测试结构和测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119230529B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411738884.0，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权用于金属填充质量检测的测试结构和测试方法是由李典;伍林玲;陈冠中设计研发完成，并于2024-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于金属填充质量检测的测试结构和测试方法在说明书摘要公布了：本申请公开了用于金属填充质量检测的测试结构和测试方法，该测试结构包括多个测试单元，测试单元包括第一金属层、第二金属层和金属连接通道，其中，第一金属层和第二金属层通过金属连接通道连接；第二金属层位于第一金属层的上方，第二金属层和金属连接通道通过金属填充一体成形且采用电化学电镀工艺进行金属填充；不同的测试单元中第二金属层的周长不同，通过测试单元电阻值的测试来检测不同的测试单元中金属填充的质量。本申请通过改进测试结构实现了多种具有不同金属填充质量的工艺窗口的同时检测，从而能够较为便捷地确定采用电化学电镀工艺进行金属填充时的最优窗口。

本发明授权用于金属填充质量检测的测试结构和测试方法在权利要求书中公布了：1.一种用于金属填充质量检测的测试结构，包括多个测试单元，所述测试单元包括第一金属层、第二金属层和金属连接通道，其中，所述第一金属层和所述第二金属层通过所述金属连接通道连接；所述第二金属层位于所述第一金属层的上方，所述第二金属层和所述金属连接通道通过金属填充一体成形且采用电化学电镀工艺进行所述金属填充；不同的所述测试单元中所述第二金属层的周长基于线边缘密度效应设置为不同数值，所述测试单元的电阻值与所采用金属填充的质量负相关，通过所述测试单元电阻值的测试来检测不同的所述测试单元中所述金属填充的质量并且具有最小电阻值的测试单元中的第二金属层的工艺参数被确定为测得的金属填充质量最好的工艺窗口；其中，所述第二金属层包括正方形区域和所述正方形区域的各个边向外延伸而得到的四个相同的矩形区域；所述正方形区域的边长为第一长度，所述正方形区域的各个边向外延伸第二长度而得到所述矩形区域，不同的所述测试单元中所述第二长度的2倍与所述第一长度的求和结果不同。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人安徽大学;合肥晶合集成电路股份有限公司，其通讯地址为：230601 安徽省合肥市蜀山区九龙路111号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。