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龙图腾网恭喜合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利掩膜板组件及蒸镀设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116162896B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310194805.3，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜板组件及蒸镀设备是由李如;杨凯;潘晟恺;乔永康;徐阳设计研发完成，并于2023-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩膜板组件及蒸镀设备在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种掩膜板组件及蒸镀设备。该掩膜板组件包括：框架；掩膜条，设置在框架上，并位于框架朝向待蒸镀基板的一侧，掩膜条具有第一开口，第一开口在待蒸镀基板上的正投影与待蒸镀基板的待蒸镀区域重合；掩膜托盘，设置在框架上，并位于掩膜条朝向蒸镀源的一侧，掩膜托盘遮挡至少部分掩膜条，掩膜托盘具有第二开口，第二开口在待蒸镀基板上的正投影覆盖第一开口在待蒸镀基板上的正投影；其中：掩膜托盘至少朝向蒸镀源一侧的表面粗糙度大于掩膜条的表面粗糙度。本申请实施例能够降低沉积在掩膜板组件上的膜层从掩膜板组件上剥落的风险，提高掩膜板组件的使用寿命。

本发明授权掩膜板组件及蒸镀设备在权利要求书中公布了：1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：框架；掩膜条，设置在所述框架上，并位于所述框架朝向待蒸镀基板的一侧，所述掩膜条具有第一开口，所述第一开口在所述待蒸镀基板上的正投影与所述待蒸镀基板的待蒸镀区域重合；掩膜托盘，设置在所述框架上，并位于所述掩膜条朝向蒸镀源的一侧，所述掩膜托盘遮挡至少部分所述掩膜条，所述掩膜托盘具有第二开口，所述第二开口在所述待蒸镀基板上的正投影覆盖所述第一开口在所述待蒸镀基板上的正投影；其中：所述掩膜托盘至少朝向蒸镀源一侧的表面粗糙度大于所述掩膜条的表面粗糙度；所述掩膜条包括相连接的第一连接部和掩膜部，所述第一连接部与所述框架连接，所述掩膜部限定出所述第一开口，所述第一连接部位于所述掩膜部背离所述第一开口的一侧；所述掩膜托盘包括相连接的第二连接部和遮挡部，所述第二连接部与所述框架连接，所述遮挡部限定出所述第二开口，所述第二连接部位于所述遮挡部背离所述第二开口的一侧；所述遮挡部遮挡至少部分所述掩膜部，所述遮挡部与所述掩膜部之间具有间隙。

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