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龙图腾网恭喜上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种基于光栅图像的位移测量方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114387323B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111593678.1，技术领域涉及：G06T7/521；该发明授权一种基于光栅图像的位移测量方法及装置是由黄涛;刘骊松设计研发完成，并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于光栅图像的位移测量方法及装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于光栅图像的位移测量方法及装置，首先获取模板图像；其次，沿光栅条纹方向对所述模板图像进行投影得到模板向量；然后，采集待测物位移后的光栅图像，沿光栅条纹方向对所述光栅图像进行投影，构建待测向量，计算待测向量与模板向量的归一化相关系数，其中相关系数最大值对应的像素位置即为待测物位移后的目标特征的像素位置；最后将待测物位移后的目标特征的像素位置与目标特征初始像素位置相减，得到目标特征的相对像素位移，基于所述相对像素位移和所述待测物的初始位置，得到待测物位移后的绝对位置。本发明仅需光栅光源以及采集光栅图像的摄像头即可进行位移测量，适合狭小空间中的位移测量。

本发明授权一种基于光栅图像的位移测量方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种基于光栅图像的位移测量方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，获取模板图像，包括：标定待测物的初始位置，并采集待测物的光栅图像，所述光栅图像包括目标特征，所述目标特征是所述光栅图像中不同于光栅条纹的标记，获取所述目标特征的初始像素位置，通过在所述光栅图像中截取包含所述目标特征及其相邻多个周期的光栅条纹获得所述模板图像；S2，沿光栅条纹方向依次计算所述模板图像中每一列像素的灰度平均值，构建模板向量；S3，采集所述待测物位移后的光栅图像；S4，沿光栅条纹方向依次计算所述待测物位移后的光栅图像中每一列像素的灰度平均值，构建待测向量；S5，计算所述待测向量与所述模板向量的归一化相关系数，其中所述归一化相关系数最大值对应的像素位置即为所述待测物位移后的目标特征的像素位置；S6，将待测物位移后的目标特征的像素位置与目标特征初始像素位置相减，得到目标特征的相对像素位移，基于所述相对像素位移和所述待测物的初始位置，得到待测物位移后的绝对位置。

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