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龙图腾网恭喜纽富来科技股份有限公司申请的专利带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114787958B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180006999.9，技术领域涉及：H01J37/305；该发明授权带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置是由野村春之;中山田宪昭设计研发完成，并于2021-03-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置在说明书摘要公布了：迅速且准确地计算基板的带电量。带电粒子束描绘方法包括：将描绘对象的基板的描绘区域假想分割为网格状，计算表示每个网格区域的上述图案的配置比例的图案密度的工序S100；使用上述图案密度计算每个网格区域的剂量的工序S102；使用将预先求出的上述抗蚀剂膜的膜厚和剂量作为变量的带电量计算用的函数，根据形成于上述基板的上述抗蚀剂膜的膜厚以及计算出的上述剂量计算带电量的工序S104；根据计算出的上述带电量计算描绘位置的位置偏移量的工序S106；以及使用上述位置偏移量校正上述带电粒子束的照射位置的工序S108。

本发明授权带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子束描绘方法，通过偏转器使带电粒子束偏转，向形成有抗蚀剂膜的基板照射上述带电粒子束来描绘图案，具备：将上述基板的描绘区域假想分割为网格状，计算表示每个网格区域的上述图案的配置比例的图案密度的工序；使用上述图案密度计算每个网格区域的剂量的工序；使用将预先求出的上述抗蚀剂膜的膜厚与剂量作为变量的带电量计算用的函数，根据形成于上述基板的上述抗蚀剂膜的膜厚以及计算出的上述剂量计算带电量的工序；根据计算出的上述带电量计算描绘位置的位置偏移量的工序；以及使用上述位置偏移量校正上述带电粒子束的照射位置的工序，上述带电量计算用的函数由表示上述抗蚀剂膜的物理特性的参数决定，物理特性包含抗蚀剂的二次电子发射概率、介电常数、射束照射中的电阻率、功函数以及空穴残存率的至少任一个，上述带电量计算用的函数即使在上述抗蚀剂膜的剂量灵敏度不同的情况下也能够计算带电量。

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