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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基片检查方法、基片检查系统和控制装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112050743B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010472660.5，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权基片检查方法、基片检查系统和控制装置是由鹤田丰久;富田浩设计研发完成，并于2020-05-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本基片检查方法、基片检查系统和控制装置在说明书摘要公布了：本发明提供基片检查方法、基片检查系统和控制装置。基片检查方法包括：基于模型形成用基片的膜的特征量的测量结果，和拍摄模型形成用基片而生成的模型形成用拍摄图像，来构建表示基片的拍摄图像中的像素值与该基片的膜的特征量的关系的相关模型的步骤；拍摄特征量获取对象基片生成拍摄图像，基于该拍摄图像和相关模型，来计算特征量获取对象基片的膜的推算特征量的步骤；计算对多个特征量获取对象基片计算出的推算特征量的统计值的步骤；以及根据膜的特征量的测量结果和推算特征量的统计值，计算推算特征量的补偿量的步骤，其中膜是对补偿计算用基片进行与推算特征量被计算出的膜相同的处理的膜。本发明能够简单且准确地获取基片的膜的特征量。

本发明授权基片检查方法、基片检查系统和控制装置在权利要求书中公布了：1.一种对基片进行检查的基片检查方法，其特征在于，包括：基于用测量器测量形成于模型形成用基片的膜的特征量的测量结果，和用第一基片处理系统的摄像装置拍摄所述模型形成用基片而生成的模型形成用拍摄图像，来构建表示基片的拍摄图像中的像素值与形成于该基片的膜的特征量的关系的相关模型的步骤；用第二基片处理系统的摄像装置拍摄特征量获取对象基片生成拍摄图像，基于该拍摄图像和所述相关模型，来计算形成于所述特征量获取对象基片的膜的推算特征量的步骤；计算对多个所述特征量获取对象基片计算出的所述推算特征量的统计值的步骤；以及根据由测量器测量膜的特征量的测量结果和所述推算特征量的统计值，计算所述推算特征量的补偿量的步骤，其中所述膜是用所述第二基片处理系统对补偿计算用基片进行与所述推算特征量被计算出的膜的形成处理相同的处理而形成的膜，所述膜的特征量是膜厚或者该膜的线宽。

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