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龙图腾网恭喜江苏山水半导体科技有限公司申请的专利一种改善硅片表面抛光痕的精抛液及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117567941B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311470937.0，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种改善硅片表面抛光痕的精抛液及其应用是由蒋丽娇;张俊华;王超铭;井锋设计研发完成，并于2023-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种改善硅片表面抛光痕的精抛液及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种改善硅片表面抛光痕的精抛液及其应用，由如下重量百分比为100％的材料混合而成：硅溶胶2‑12％，酰胺类润湿分散剂0.1‑1％，高分子醇类润滑剂0.1‑1.5％，pH调节剂超过0.3％并使所述精抛液整体pH值为9‑11，余量为去离子水；本发明的精抛液可以有效解决硅片表面抛光后存在的微划伤问题，精抛后可改善硅片表面的抛光痕，呈现轻微抛光痕或无抛光痕的状态，满足半导体行业的精度要求。

本发明授权一种改善硅片表面抛光痕的精抛液及其应用在权利要求书中公布了：1.一种改善硅片表面抛光痕的精抛液，其特征在于，所述精抛液由如下重量百分比为100％的材料混合而成：硅溶胶8-10％，酰胺类润湿分散剂0.3％，高分子醇类润滑剂0.2％，pH调节剂超过0.3％并使所述精抛液整体pH值为9-11，余量为去离子水；所述硅溶胶中的二氧化硅平均粒径为70nm；所述酰胺类润湿分散剂为聚维酮K值30或阳离子聚丙烯酰胺；所述高分子醇类润滑剂为等质量比的聚乙烯醇和聚乙二醇；所述聚乙烯醇为PVA3-98、PVA5-98、PVA28-98、PVA60-98、PVA17-94、PVA27-96、PVA3-88、PVA5-88、PVA22-88、PVA30-88、PVA44-88、PVA95-88、PVA3-80、PVA32-80、PVA35-80、PVA48-80、PVA5-74中的一种或多种；所述聚乙二醇为PEG400、PEG600、PEG1500、PEG2000、PEG3350、PEG4000、PEG6000中的一种或多种。

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