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龙图腾网恭喜长江存储科技有限责任公司申请的专利半导体工艺异常的检测方法、装置与系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114256105B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111459865.0，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权半导体工艺异常的检测方法、装置与系统是由朱道钰;杨海峰设计研发完成，并于2021-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺异常的检测方法、装置与系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种半导体工艺异常的检测方法、装置与系统。该方法包括：在存在异常晶圆的情况下，获取在相同的工艺步骤时制作异常晶圆的和正常晶圆的第一工艺数据和第二工艺数据；根据第一工艺数据和第二工艺数据，判断异常晶圆的工艺步骤是否发生异常。该方法中，在生产完成的晶圆不满足预定要求的性能时，获取异常晶圆和正常晶圆在相同的工艺步骤制作时的第一工艺数据和第二工艺数据，根据异常晶圆的第一工艺数据和正常晶圆的第二工艺数据，就可以确定该步骤是否发生异常，从而实现了检测半导体制作工艺步骤是否发生异常，进而可以根据该检测结果，调整相关工艺步骤的参数，避免在后续的半导体制作中造成更大的损失。

本发明授权半导体工艺异常的检测方法、装置与系统在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺异常的检测方法，其特征在于，包括：在存在异常晶圆的情况下，获取在相同的工艺步骤时制作所述异常晶圆的和正常晶圆的工艺数据，分别得到第一工艺数据和第二工艺数据，所述异常晶圆为性能不满足预定要求的晶圆，所述正常晶圆为性能满足预定要求的晶圆；根据所述第一工艺数据和所述第二工艺数据，判断所述异常晶圆的所述工艺步骤是否发生异常,在存在异常晶圆的情况下，获取在相同的工艺步骤时制作所述异常晶圆的和所述正常晶圆的工艺数据，分别得到第一工艺数据和第二工艺数据，包括：对工艺步骤进行编号，相同的工艺步骤的编号相同，得到多个工艺编号；获取对应各所述工艺步骤时，制作所述正常晶圆时的第一预定工艺数据以及制作所述异常晶圆时的第二预定工艺数据，其中，在制作一个所述晶圆时，多个时间上具有间隔的相同的所述工艺步骤对应同一个所述工艺编号；根据所述第一预定工艺数据和所述第二预定工艺数据，对所述工艺编号进行调整，得到调整后的所述工艺编号，所述调整包括以下至少之一：将相邻的不同的所述工艺编号调整为相同的所述工艺编号、将两个相同的所述工艺步骤对应的所述工艺编号调整为不同的所述工艺编号；获取相同的调整后的所述工艺编号对应的所述工艺步骤时，制作所述异常晶圆的和所述正常晶圆的工艺数据，分别得到所述第一工艺数据和所述第二工艺数据。

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