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龙图腾网恭喜科磊股份有限公司申请的专利用于灰场成像的设备及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114746739B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-04发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080083596.X，技术领域涉及：G01N21/17；该发明授权用于灰场成像的设备及方法是由刘秀梅设计研发完成，并于2020-12-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于灰场成像的设备及方法在说明书摘要公布了：将光束从光源引导于卡盘上的晶片处。从所述晶片反射所述光束朝向2D成像相机。所述光束的路径中的可移动聚焦透镜可独立地改变照明共轭及集光共轭。可使用照明路径中的结构化掩模且可引导所述光束穿过所述结构化掩模中的孔径。使用所述2D成像相机产生晶片在无直接照明的区带中的灰场图像且可使用所述灰场图像确定缺陷在所述晶片上的位置。

本发明授权用于灰场成像的设备及方法在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体晶片的光学系统，其包括：光源，其产生光束；物镜；卡盘，其经配置以将晶片固持在行进穿过所述物镜的所述光束的路径中；中继透镜，其在所述光束的所述路径中安置在所述光源与所述物镜之间；可调谐照明孔径，其在所述光束的所述路径中安置在所述光源与所述中继透镜之间；第一镜筒透镜，其在所述光束的所述路径中安置在所述中继透镜与所述物镜之间；第一可移动聚焦透镜，其在所述光束的所述路径中安置在所述第一镜筒透镜与所述中继透镜之间；2D成像相机，其经配置以接收从所述晶片反射穿过所述物镜的光；第二可移动聚焦透镜，其在所述光束的所述路径中安置在所述物镜与所述2D成像相机之间；及第二镜筒透镜，其在所述光束的所述路径中安置在所述第二可移动聚焦透镜与所述物镜之间；其中所述第一可移动聚焦透镜及所述第二可移动聚焦透镜经配置以便能够沿着所述光束的所述路径移动以调整所述光源与所述晶片之间的照明共轭及所述晶片与所述2D成像相机之间的集光共轭，且其中所述第一可移动聚焦透镜及所述第二可移动聚焦透镜经配置以将照明焦点定位在所述晶片的表面处、上方或下方；且其中所述2D成像相机经配置以产生所述晶片的灰场图像。

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