恭喜北京北方华创微电子装备有限公司刘烨获国家专利权
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龙图腾网恭喜北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118792637B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411053250.1，技术领域涉及：C23C16/50；该发明授权工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室是由刘烨设计研发完成，并于2024-08-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室在说明书摘要公布了：本发明公开一种工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室，所公开的工艺气体喷嘴包括喷嘴主体21、第一凸起22和环状部23，所述喷嘴主体21具有第一端213和第二端214，所述环状部23环绕所述第二端214设置，所述第一凸起22设于所述喷嘴主体21上，并位于所述环状部23的朝向所述第一端213的一侧，所述第一凸起22背向所述环状部23的表面222与所述喷嘴主体21形成反向导流槽04。此方案能解决相关技术在对半导体工艺腔室的内壁进行清洁时存在清洁效果较差的问题。
本发明授权工艺气体喷嘴及半导体工艺腔室在权利要求书中公布了：1.一种工艺气体喷嘴，其特征在于，包括喷嘴主体21、第一凸起22和环状部23，所述喷嘴主体21具有第一端213和第二端214，所述环状部23环绕所述第二端214设置，所述第一凸起22设于所述喷嘴主体21上，并位于所述环状部23的朝向所述第一端213的一侧，所述第一凸起22背向所述环状部23的表面222与所述喷嘴主体21形成反向导流槽04，所述反向导流槽04用于对清洗气体进行反向导流，所述第二端214设有出气孔。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
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