恭喜沈阳芯源微电子设备股份有限公司张庭霄获国家专利权
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龙图腾网恭喜沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请的专利一种清洗腔体和清洗设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN222766812U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202420815453.9,技术领域涉及:B08B3/02;该实用新型一种清洗腔体和清洗设备是由张庭霄;刘忠贺;刘迟;郭生华设计研发完成,并于2024-04-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种清洗腔体和清洗设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种清洗腔体和清洗设备,包括:升降腔室,所述升降腔室用于通过上升增加清洗面至腔体顶部的相对距离,以将清洗过程中产生的飞溅的液滴限制于所述腔体内部。本实用新型能够将清洗过程中清洗液喷洒在清洗面上而产生的飞溅的液滴阻挡在腔体内部,防止清洗过程中飞溅的液滴外溢对光学元件的探测效果造成影响,还可防止清洗过程中产生的飞溅的固体副产物对排液口造成堵塞,且能同时有效回收固体副产物中含有的贵金属。
本实用新型一种清洗腔体和清洗设备在权利要求书中公布了:1.一种清洗腔体,其特征在于,包括:固定腔室;升降腔室,所述升降腔室配合设于所述固定腔室上,所述升降腔室通过升降机构的驱动作相对于所述固定腔室的上升,增加清洗面至所述升降腔室顶部的相对距离,从而增加清洗面至所述腔体顶部的相对距离,以将清洗过程中产生的飞溅的液滴限制于所述腔体内部。
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