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龙图腾网恭喜重庆大学申请的专利一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695207B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210326399.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置是由刘丹;方亮;黄中浩;刘毅;林鸿涛;吴旭;张淑芳;吴芳设计研发完成，并于2022-03-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置，所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔；所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ；所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通，所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通。本发明通过引入涡流管形成特殊的气路装置，该装置可以将气体分离成冷气体和热气体，冷气体对基板和等离子体清洗腔进行降温，避免高压等离子体对Al、Cu、ITO等膜层的损伤，又可以充分去除有机物避免刻蚀残留，还能抑制挥发出的刻蚀蒸汽对膜层的腐蚀，防止线宽偏小的问题。同时，该装置分离出的热气体可以确保刻蚀腔室温度分布均匀，提升刻蚀均一性。

本发明授权一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种带有等离子体清洗的湿法刻蚀装置，所述湿法刻蚀装置包括等离子体清洗腔和刻蚀腔；所述等离子体清洗腔用于容纳并等离子体清洗基板，所述等离子体清洗腔内设有向基板表面轰击等离子体的等离子体发生器；所述刻蚀腔用于容纳并刻蚀基板，所述刻蚀腔内设有向基板表面喷淋刻蚀液的喷淋管；所述等离子体清洗腔通过密封门与刻蚀腔连通；其特征在于：所述湿法刻蚀装置还包括涡流管、冷却风刀Ⅰ、冷却风刀Ⅱ、加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ；所述涡流管的冷气管分别与冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ连通，所述涡流管的热气管分别与加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ连通；所述冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ设置在等离子体清洗腔内，所述冷却风刀Ⅰ位于等离子体发生器前方，所述冷却风刀Ⅱ位于等离子体发生器后方，所述冷却风刀Ⅰ和冷却风刀Ⅱ向基板表面吹冷气体；所述加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ设置在刻蚀腔内，所述加热风刀Ⅰ位于刻蚀腔的入口处，所述加热风刀Ⅱ位于刻蚀腔的出口处，所述加热风刀Ⅰ和加热风刀Ⅱ向基板表面吹热气体。

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