恭喜上海超导科技股份有限公司朱佳敏获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海超导科技股份有限公司申请的专利超导带材微观结构置样方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116148007B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310002077.1，技术领域涉及：G01N1/28；该发明授权超导带材微观结构置样方法是由朱佳敏;甄水亮;陈思侃;张超;高中赫;马化韬;盛杰;吴蔚;王臻郅;丁逸珺设计研发完成，并于2022-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本超导带材微观结构置样方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于超导带材微观结构置样方法，包括：步骤1：用金属层对超导带材进行封装；步骤2：分离预设长度的封装在超导带材两侧的金属层；步骤3：固定超导带材和靠近超导层一侧的金属层，分离靠近所述超导带材基带层一侧的金属层；步骤4：从所述超导带材上分离所述超导带材的超导层和缓冲层；步骤5：对分离出的所述组合层的超导层或缓冲层进行置样；步骤6：用检测设备对置样的所述超导层或缓冲层进行观测。与现有技术相比，本发明经过解刨，各个膜层结构保存完好，有利于后期的分析。
本发明授权超导带材微观结构置样方法在权利要求书中公布了：1.一种超导带材微观结构置样方法，其特征在于，包括：步骤1：用金属层对超导带材进行封装；步骤2：分离预设长度的封装在超导带材两侧的金属层；步骤3：固定超导带材和靠近超导层一侧的金属层，分离靠近所述超导带材基带层一侧的金属层；步骤4：从所述超导带材上分离所述超导带材的超导层和缓冲层；步骤5：对分离出的超导层或缓冲层进行置样。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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