恭喜布鲁克·道尔顿有限及两合公司安德烈亚斯·哈泽获国家专利权
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龙图腾网恭喜布鲁克·道尔顿有限及两合公司申请的专利透射几何中具有解吸后电离的解吸离子源获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115020190B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210214148.X，技术领域涉及：H01J49/16；该发明授权透射几何中具有解吸后电离的解吸离子源是由安德烈亚斯·哈泽;延斯·赫恩多尔夫;延斯·博斯迈尔设计研发完成，并于2022-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本透射几何中具有解吸后电离的解吸离子源在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于从沉积在对电磁波至少部分透明的基板上的样品材料中产生离子的设备，包括：‑具有用于基板的保持器的支撑装置，‑包含解吸装置和电离装置的解吸电离单元，所述解吸装置被布置和设计成使用至少一个能量爆发从基板上的解吸位点解吸沉积的样品材料，并且所述电离装置被布置和设计成在至少一个能量爆发后使用电磁波在基板上方照射解吸的样品材料，其中电磁波在进入解吸的样品材料之前在对应于解吸位点的位置穿过基板，以及‑被布置和设计用于从解吸的样品材料中提取离子并将其转移到分析仪中的提取装置。本发明还涉及一种对应安排的方法。
本发明授权透射几何中具有解吸后电离的解吸离子源在权利要求书中公布了：1.用于从沉积在对电磁波至少部分透明的基板上的样品材料中产生离子的设备，包括：-具有用于基板的保持器的支撑装置，-包含解吸装置和电离装置的解吸电离单元，所述解吸装置被布置和设计成使用至少一个能量爆发从基板上的解吸位点解吸沉积的样品材料，并且所述电离装置被布置和设计成在至少一个能量爆发后使用电磁波在基板上方照射解吸的样品材料，其中电磁波在进入解吸的样品材料之前在对应于解吸位点的位置穿过基板，以及-被布置和设计用于从解吸的样品材料中提取离子并将其转移到分析仪中的提取装置。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人布鲁克·道尔顿有限及两合公司，其通讯地址为：德国不来梅；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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