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龙图腾网恭喜上海华力集成电路制造有限公司申请的专利一种辅助图形构造方法、装置、存储介质及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114036888B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111267892.8，技术领域涉及：G06F30/392；该发明授权一种辅助图形构造方法、装置、存储介质及设备是由葛同广;曾鼎程;胡展源设计研发完成，并于2021-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种辅助图形构造方法、装置、存储介质及设备在说明书摘要公布了：本发明属于微电子技术领域，尤其涉及一种辅助图形构造方法及与之相应的装置、存储介质及设备。通过引入种子图形，本发明方法可构造出尽可能多的辅助图形，用以改善OPC特性，此外还可针对不同的约束和布局设立优先级，最大限度地增大工艺窗口；特别是借助基于像素的OPC过程，可进一步改善特征图形的布局。

本发明授权一种辅助图形构造方法、装置、存储介质及设备在权利要求书中公布了：1.一种辅助图形构造方法，其特征在于，包括：数据采集步骤（10）；获取第一版图信息（901、902）；其中，所述第一版图信息（901、902）包括孔和或通孔层信息，所述第一版图信息（901、902）包括所述孔和或通孔层的特征图形；获取第二版图信息；其中，所述第二版图信息包含待插入辅助图形的约束信息；种子构造步骤（20）；获取第一种子图形（111、222、333、444）；其中，所述第一种子图形（111、222、333、444）位于所述第二版图中，所述第一种子图形（111、222、333、444）的长及宽的尺寸小于预设值；图形生成步骤（30）；延伸所述第一种子图形（111、222、333、444），构造第一辅助图形并插入所述第一版图信息（901、902）；迭代优化单元（44）；依据光学邻近修正规则修正第一种子图形（111、222、333、444）的尺寸信息得到第二种子图形；通过光学修正模型检验第二种子的有效性，过滤可能在工件上有非预期和或未知投影的部分，迭代更新第二种子图形并完成辅助图形的构造；所述第一种子图形（111、222、333、444）为正方形元素或图形；所述元素为集成电路的特征图形；所述约束信息包括光学规则，所述光学规则包括光波的散射和衍射规则。

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