恭喜京东方科技集团股份有限公司侯东飞获国家专利权
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龙图腾网恭喜京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示面板的制作方法、显示面板及显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115877613B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111145306.2,技术领域涉及:G02F1/1339;该发明授权显示面板的制作方法、显示面板及显示装置是由侯东飞;张锋;董立文;崔钊;刘文渠;孟德天;王利波;吕志军;姚琪设计研发完成,并于2021-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板的制作方法、显示面板及显示装置在说明书摘要公布了:本公开涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置,该制作方法包括:在衬底基板上制备第一基底,形成第一基板;在第一基底上制备多个支撑结构,其中,多个支撑结构在第一基底上间隔设置,相邻的支撑结构之间形成第一间隙;在第一间隙内填充第一光刻胶以形成像素墙;将支撑结构去除,以使像素墙形成在第一基板。本公开通过在第一基板上先间隔预设距离制备多个支撑结构,再在支撑结构之间形成的第一间隙中涂覆第一光刻胶以形成像素墙,之后将支撑结构去除,便可在第一基板上制作出高度均一的像素墙,将像素墙与第一基板之间的间隙填充,防止墨水中的黑色微球迁移导致出现显示串扰,保证显示面板显示的稳定性,提高显示面板产品品质。
本发明授权显示面板的制作方法、显示面板及显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示面板的制作方法,包括:在衬底基板上制备第一基底,形成第一基板;在所述第一基底上制备多个支撑结构,其中,多个所述支撑结构在所述第一基底上间隔设置,相邻的所述支撑结构之间形成第一间隙;在所述第一间隙内填充第一光刻胶以形成像素墙;将所述支撑结构去除,以使所述像素墙形成在所述第一基板;在所述第一基底上,制备多个支撑结构,包括:在所述第一基底上制备透镜层;采用纳米压印法在所述透镜层上涂覆压印胶,形成压印层;按照预设的图形样式对所述压印层进行压印,压印出凹槽区域,其中,所述凹槽区域形成所述第一间隙,所述压印层未被压印的部分形成所述支撑结构;在压印完成的所述压印层上保留预设的所述压印胶形成压印残胶层,其中,所述压印残胶层使得所述像素墙与透镜层不会直接接触。
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