恭喜细美事有限公司金堤镐获国家专利权
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龙图腾网恭喜细美事有限公司申请的专利基板处理设备及基板支撑单元获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113921362B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110767504.6，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理设备及基板支撑单元是由金堤镐;赵宰焕;郑泰淑设计研发完成，并于2021-07-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理设备及基板支撑单元在说明书摘要公布了：本发明实施例提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：工艺腔室，被构造成形成处理空间；气体供应单元，被构造成将工艺气体供应至所述工艺腔室的内部；等离子体产生单元，被构造成自引入至所述工艺腔室的所述内部中的所述工艺气体产生等离子体；以及基板支撑单元，设置于所述处理空间中且被构造成支撑基板，所述基板支撑单元可以包括：第一板；以及第二板，其是与所述第一板相邻，且在所述第一板与所述第二板之间可以形成间隙，且供应管被构造成将气体供应至由所述间隙限定的空间中。
本发明授权基板处理设备及基板支撑单元在权利要求书中公布了：1.一种基板处理设备，包括：工艺腔室，被构造成形成处理空间；气体供应单元，被构造成将工艺气体供应至所述工艺腔室的内部；等离子体产生单元，被构造成从引入至所述工艺腔室的所述内部中的所述工艺气体产生等离子体；以及基板支撑单元，设置于所述处理空间中且被构造成支撑基板，其中所述基板支撑单元包括：第一板；以及第二板，其与所述第一板相邻，且其中在所述第一板与所述第二板之间形成间隙，且供应管被构造成将气体供应至由所述间隙限定的空间中，其中形成所述供应管的侧表面的部分区域被构造成暴露于所述间隙，且在所述部分区域中形成一个或多个分布孔，其中所述气体是低湿度气体。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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