恭喜三星电子株式会社;蔚山科学技术院李昌锡获国家专利权
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龙图腾网恭喜三星电子株式会社;蔚山科学技术院申请的专利六方氮化硼、其制造方法及电器件和半导体器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN112442734B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010787644.5,技术领域涉及:C30B25/18;该发明授权六方氮化硼、其制造方法及电器件和半导体器件是由李昌锡;申铉石;申铉振;洪锡模;马庆烈设计研发完成,并于2020-08-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本六方氮化硼、其制造方法及电器件和半导体器件在说明书摘要公布了:本公开涉及六方氮化硼、其制造方法及电子器件和半导体器件。在此公开了一种制造六方氮化硼的方法,其中六方氮化硼被外延地生长。一种制造六方氮化硼的方法包括:将催化金属放置在腔室中,该催化金属具有六方晶体结构并与腔室中的六方氮化硼h‑BN具有15%或更小的晶格失配;以及在将氮源和硼源供应到腔室中的同时,在800℃或更低的温度下在催化金属上生长六方氮化硼。
本发明授权六方氮化硼、其制造方法及电器件和半导体器件在权利要求书中公布了:1.一种制造六方氮化硼的方法,所述方法包括:在具有六方晶体结构的生长衬底上生长催化金属;将所述催化金属放置在腔室中,所述催化金属具有六方晶体结构,并且与六方氮化硼h-BN具有大于或等于0%且小于或等于15%的晶格失配;以及在将氮源和硼源供应到所述腔室中的同时,在600℃至800℃的范围内的温度下在所述催化金属上生长六方氮化硼,所述催化金属上生长的所述六方氮化硼具有单晶结构。
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