恭喜ASML荷兰有限公司;通快激光系统半导体制造欧洲公司R·A·C·M·比伦斯获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司;通快激光系统半导体制造欧洲公司申请的专利激光聚焦模块获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114008528B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080027453.7,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权激光聚焦模块是由R·A·C·M·比伦斯;袁佳跃;N·J·A·H·博南;M·A·兰贝特;A·K·霍普夫;S·皮勒;T·M·埃尔金;S·M·B·鲍默;德克·简·威尔弗瑞德·克拉恩德尔;M·兰詹;F·B·施佩林;A·S·特奇科夫;J·维特设计研发完成,并于2020-04-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本激光聚焦模块在说明书摘要公布了:描述了一种用于EUV辐射源的激光聚焦系统330,所述激光聚焦系统包括:‑第一曲面反射镜330.1,所述第一曲面反射镜被配置成从束传递系统接收激光束并且产生第一反射激光束316;‑第二曲面反射镜330.2,所述第二曲面反射镜被配置成接收所述第一反射激光束316并且产生第二反射激光束317,其中,所述激光聚焦系统330被配置成将所述第二反射激光束317聚焦到所述EUV辐射源360的容器350中的目标部位370。
本发明授权激光聚焦模块在权利要求书中公布了:1.一种用于EUV辐射源的激光聚焦系统,所述激光聚焦系统包括:-第一曲面反射镜,所述第一曲面反射镜被配置成从束传递系统接收激光束并且产生第一反射激光束;-第二曲面反射镜,所述第二曲面反射镜被配置成接收所述第一反射激光束并且产生第二反射激光束,其中,所述激光聚焦系统被配置成将所述第二反射激光束聚焦到所述EUV辐射源的容器中的目标部位,其中所述容器包括收集器反射镜,其中所述第二反射激光束的光轴与水平轴之间的角度小于25度,其中所述水平轴由所述收集器反射镜的光轴限定,其中所述激光束通过一个或多个额外的反射镜接收,所述一个或多个反射镜将所述激光束朝向所述第一曲面反射镜重新定向;以及其中,所述一个或多个额外的反射镜被配置成克服所接收的激光束与重新定向的激光束之间的位置差异,并且在大致垂直方向上平移所述激光束。
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