恭喜浙江创芯集成电路有限公司李晨明获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江创芯集成电路有限公司申请的专利一种厚片功率器件的导通电阻测试方法及测试结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119480860B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510059313.2，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权一种厚片功率器件的导通电阻测试方法及测试结构是由李晨明;仰文淇;崔云龙设计研发完成，并于2025-01-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种厚片功率器件的导通电阻测试方法及测试结构在说明书摘要公布了：本发明公开一种厚片功率器件的导通电阻测试方法及测试结构。本发明导通电阻测试结构包括洗边处理后晶圆，以及金属化外延层；所述金属化外延层位于晶圆的洗边处理后暴露的衬底区域上；测试时，所述金属化外延层作为漏极接入点，晶圆上各芯片的源极、栅极分别作为源极接入点、栅极接入点；本发明通过物理气相沉积技术沉积一层金属，形成一个可靠的电气连接点，作为测试时的漏端接入点，解决了厚片功率器件Rdson测试难题。本发明还提高了晶圆边缘非活性区域的利用率，使原本在传统测试中难以利用的区域成为实现测试功能的关键部分，减少了对晶圆其他区域的依赖。
本发明授权一种厚片功率器件的导通电阻测试方法及测试结构在权利要求书中公布了：1.一种厚片功率器件的导通电阻测试结构，其特征在于包括洗边处理后晶圆，以及金属化外延层；所述金属化外延层位于晶圆的洗边处理后暴露的衬底区域上；测试时，所述金属化外延层作为漏极接入点，晶圆上各芯片的源极、栅极分别作为源极接入点、栅极接入点；所述衬底材质为硅；所述金属化外延层是通过物理气相沉积技术沉积在晶圆的洗边处理后暴露的衬底区域上，具体是以钛层作为底层，镍层作为中间层，银层作为顶层，其中所述钛层与衬底实现欧姆接触。
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