恭喜苏州芯慧联半导体科技有限公司;固态湿法(苏州)半导体科技有限公司李帅臣获国家专利权
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龙图腾网恭喜苏州芯慧联半导体科技有限公司;固态湿法(苏州)半导体科技有限公司申请的专利用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119425973B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510025687.2,技术领域涉及:B05B1/06;该发明授权用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法是由李帅臣;周宏杰;周军奎;瞿灵杰;朱学新设计研发完成,并于2025-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法在说明书摘要公布了:本发明实施例提供了一种用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法,涉及半导体技术领域,其中,该雾化喷嘴包括:在喷嘴壳体内从上至下依次设置过滤体、导流体、旋流体以及雾化体,过滤体过滤溶液;导流体将过滤后的溶液通过导流体腔体后经第一孔导出;旋流体将第一孔导出的溶液经第二孔导出并形成旋流状态;雾化体的半球形壳体的直径平面与旋流体的下端面垂直压紧,使得第二孔导出的旋流状态刻蚀溶液流入半球形壳体内,半球形壳体的顶点处设置有喷液孔,将溶液以空心锥形的雾状喷出。该方案解决了现有的雾化喷嘴存在的工作压力高、流量大、雾化颗粒大、喷雾角度小等缺陷。
本发明授权用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法在权利要求书中公布了:1.一种用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴,其特征在于,包括:喷嘴壳体(1),所述喷嘴壳体(1)为腔体;过滤体(2),所述过滤体(2)的下端插入所述喷嘴壳体(1)的上端,所述过滤体(2)内设置有滤网,所述过滤体(2)用于过滤刻蚀溶液;导流体(3),设置在所述喷嘴壳体(1)内,所述导流体(3)为上端开口的腔体,所述导流体(3)的上端开口与所述过滤体(2)的下端的滤网对接,所述导流体(3)的下端的侧壁上设置有多个第一孔(303),所述导流体(3)用于将过滤后的刻蚀溶液通过所述导流体(3)的腔体后经所述第一孔(303)导出;旋流体(4),设置在所述喷嘴壳体(1)内,所述旋流体(4)为柱体结构,所述旋流体(4)的上端面与所述导流体(3)的下端面垂直压紧,所述柱体结构的周向侧壁上设置有多个第二孔(401),所述第二孔(401)沿周向的预设方向倾斜预设角度,所述第二孔(401)与所述第一孔(303)一一对应,所述旋流体(4)用于将所述第一孔(303)导出的刻蚀溶液经所述第二孔(401)导出并形成旋流状态;雾化体(5),设置在所述喷嘴壳体(1)内,所述雾化体(5)包括半球形壳体(501),所述半球形壳体(501)的直径平面与所述旋流体(4)的下端面垂直压紧,所述半球形壳体(501)的直径与所述旋流体(4)下端的直径相同,使得所述第二孔(401)导出的旋流状态刻蚀溶液流入所述半球形壳体(501)内,所述半球形壳体(501)的顶点处设置有喷液孔(502),所述喷液孔(502)位于所述喷嘴壳体(1)的下端面的开口处,所述喷液孔(502)用于将所述半球形壳体(501)内的刻蚀溶液以空心锥形的雾状喷出。
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