买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网恭喜宁波汉科医疗器械有限公司申请的专利一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119372597B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411379292.4，技术领域涉及：C23C14/08；该发明授权一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法是由胡武;朱超挺;尚二冬;张建明;杨立涛;沈建节;陈柳设计研发完成，并于2024-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法，属于高附着力抗菌膜技术领域，采用靶材溅射到基底的方式制作形成，靶材包括的抗菌材料以及掺杂剂，基底为玻璃基底；抗菌材料以氧化锌作为主要抗菌材料，掺杂剂采用三氧化二镓。制备方法包括：根据基本配比范围，制作玻璃基底,以及将氧化锌和三氧化二镓混合制作靶材；采用磁控溅射技术,以自适应的时序功率对靶材进行溅射,溅射气体采用纯Ar气,整个溅射过程保持常温,在基底上沉积形成GZO薄膜；基底的非溅射表面贴附有黑白相间的方格图像；将制备好的高附着力抗菌膜应用于口腔隐形矫治器的表面,作为抗菌保护层。本发明解决了现有的抗菌保护膜存在附着力不高的问题。

本发明授权一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种用于口腔隐形矫治器的高附着力抗菌膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S10、采用70-80wt%的二氧化硅、10-20wt%的氧化钙和5-10wt%的氧化钠，制作玻璃基底,以及将80-90wt%的氧化锌和3wt%的三氧化二镓混合制作靶材；S20、采用磁控溅射技术,以自适应的时序功率对靶材进行溅射,溅射气体采用纯Ar气,整个溅射过程保持常温,在基底上沉积形成GZO薄膜；所述基底的非溅射表面贴附有黑白相间的方格图像；S30、将制备好的高附着力抗菌膜应用于口腔隐形矫治器的表面,作为抗菌保护层；其中，所述自适应的时序功率确定的步骤，具体是：S21、磁控溅射过程中，实时获取所述基底的多个角度的表面图像；S22、分别对所述多个角度的表面图像进行预处理，得到预处理的多个角度的表面图像；S23、在所述预处理的多个角度的表面图像中，选择正交拍摄角度的表面图像，采用图像分割技术进行背景分割，得到前景图像以及背景图像；S24、根据所述背景图像,以及所述方格图像进行对齐配准,利用图像处理技术计算所述背景图像与所述方格图像的灰度差,作为所述GZO薄膜的透光率；S25、对所述前景图像提取纹理特征、轮廓中心矩特征、表面起伏特征以及色彩特征，计算所述GZO薄膜的粗糙度；S26、建立考虑磁控溅射工艺参数的透光率方程以及粗糙度方程，并采用磁控溅射过程中的实时磁控溅射工艺参数以及计算得到的透光度和粗糙度分别对所述透光率方程以及粗糙度方程进行拟合，得到透光率拟合方程以及粗糙度拟合方程；S27、以所述透光率拟合方程和粗糙度拟合方程建立博弈模型，约束条件包括低透光率80%、GZO薄膜厚度80-120nm以及预设的最长溅射时长、最大功率；S28、求解所述博弈模型，得到最优的磁控溅射工艺参数作为下一时段的磁控溅射工艺参数进行磁控溅射；S29、重复执行步骤S21~S28，直到得到厚度80-120nm的GZO薄膜。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人宁波汉科医疗器械有限公司，其通讯地址为：315300 浙江省宁波市慈溪市长河镇工业区三横路288号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。