恭喜浙江鑫柔科技有限公司郭景华获国家专利权
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龙图腾网恭喜浙江鑫柔科技有限公司申请的专利一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113867108B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111114879.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法是由郭景华;王钧;江建国设计研发完成，并于2021-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：1提供具有UV阻隔功能的光学透明基材；2在所述光学透明基材的两个表面上涂覆光阻材料；以及3将涂覆有所述光阻材料的所述光学透明基材在UV光的照射下曝光并进行显影，以得到双面图案化的光学透明基材。本发明所提供的基于光学透明基材进行双面图案化的方法可以避免从基材一边照射的UV光引起基材另一边的光阻材料发生光化学反应，继而实现一次性曝光实现双面图案化；并且所用到基材均为可卷对卷生产材料，从光阻材料的涂覆、材料的曝光、后续工艺皆可卷对卷，一次流程完成，这不仅显著提高了生产效率，且明显降低了生产成本。
本发明授权一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法在权利要求书中公布了：1.一种基于光学透明基材进行双面图案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：1提供具有UV阻隔功能的光学透明基材，所述光学透明基材在UV光的波长下的透过率为≤10％；2在所述光学透明基材的两个表面上涂覆光阻材料；以及3将涂覆有所述光阻材料的所述光学透明基材在UV光的照射下曝光并进行显影，以得到双面图案化的光学透明基材，其中在步骤3中根据所述光学透明基材在目标曝光波长处的阻隔情况为所述光阻材料匹配不同的曝光能量，以避免从基材一边照射的UV光引起基材另一边的光阻材料发生光化学反应。
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