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龙图腾网恭喜拜耳公司申请的专利取代的间苯二酸二酰胺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115768752B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180040688.4，技术领域涉及：C07D257/06；该发明授权取代的间苯二酸二酰胺是由C·沃尔德拉夫;R·布劳恩;A·科恩;H·阿伦斯;U·多勒;E·阿斯马斯;B·博伦巴克-沃尔;C·H·罗辛格;E·加茨魏勒;J·迪特根;A·B·马切蒂拉设计研发完成，并于2021-04-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本取代的间苯二酸二酰胺在说明书摘要公布了：本发明涉及作为除草剂的具有通式I的间苯二酸二酰胺。在该式I中，X、Y和Z代表基团，例如氢、烷基和卤素。Q代表杂环，例如四唑基。

本发明授权取代的间苯二酸二酰胺在权利要求书中公布了：1.式I的异邻苯二甲酰亚胺或其盐 其中符号和角标定义如下：Q为Q1， R1为C1-C6-烷基、卤代-C1-C6-烷基或C3-C6-环烷基，R2为C1-C6-烷基，Rx为C1-C6-烷基、C1-C6-烷基-O-C1-C6-烷基或苯基，X为卤素、C1-C6-烷基、卤代-C1-C6-烷基、C3-C6-环烷基、R1O、R2OnS、R1O-C1-C6-烷基或R2SOn-C1-C6-烷基，Y为卤素、C1-C6-烷基、卤代-C1-C6-烷基、R1O或R2OnS，Z为氢，以下基团之一，其中各个基团均被s个选自卤素、氰基、R1CO、R1OCO、R1O和R2OnS的基团取代：C1-C6-烷基、C3-C6-环烷基、C3-C6-环烷基-C1-C6-烷基、C1-C6-烷基-O-C1-C6-烷基、C2-C6-烯基、C2-C6-烯基-C1-C6-烷基、C2-C6-炔基、C2-C6-炔基-C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基、R2SOn-C1-C6-烷基、R1CO、R1OCO、R1CO-C1-C6-烷基、R1OCO-C1-C6-烷基、R1NH-C1-C6-烷基、R12N-C1-C6-烷基、R1NHCO-C1-C6-烷基或R12NCO-C1-C6-烷基，或以下基团之一，各个基团均被s个选自卤素、C1-C6-烷基、卤代-C1-C6-烷基、C1-C6-烷氧基、卤代-C1-C6-烷氧基、R1CO和R1OCO的基团取代：苯基或苄基，n为0、1或2，和s为0、1、2或3。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拜耳公司，其通讯地址为：德国勒沃库森；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。