恭喜北京特思迪半导体设备有限公司蒋继乐获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网恭喜北京特思迪半导体设备有限公司申请的专利针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法及设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119501800B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510099431.6，技术领域涉及：B24B37/013；该发明授权针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法及设备是由蒋继乐;孟炜涛;周惠言;孙昕宇设计研发完成，并于2025-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法及设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法及设备，所述方法包括第一测量阶段和第二测量阶段，其中第一测量阶段包括在对晶圆薄膜进行抛光的过程中，利用多波长光束测量所述晶圆薄膜的厚度，并监测厚度是否达到阈值；第二测量阶段包括在厚度达到阈值后对晶圆薄膜进行抛光的过程中，采集所述晶圆薄膜对单波长光束的反射光的光强度对应的电信号，利用所述电信号确定晶圆薄膜的厚度，其中所述电信号随着厚度的变化呈现周期性变化。
本发明授权针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法及设备在权利要求书中公布了：1.一种针对晶圆薄膜抛光过程的在线原位厚度测量方法，其特征在于，包括第一测量阶段和第二测量阶段，其中第一测量阶段包括在对晶圆薄膜进行抛光的过程中，利用多波长光束测量所述晶圆薄膜的厚度，并监测厚度是否达到阈值；第二测量阶段包括在厚度达到阈值后对晶圆薄膜进行抛光的过程中，采集所述晶圆薄膜对单波长光束的反射光的光强度对应的电信号，利用所述电信号确定晶圆薄膜的厚度，其中所述电信号随着厚度的变化呈现周期性变化，所述电信号随厚度变化的周期为 ;其中，为所述单波长光束通过晶圆薄膜的折射角，为晶圆薄膜的折射率，为所述单波长光束的波长，为所述周期；所述单波长光束的波长的值，使得周期大于或等于所述阈值，所述阈值是根据所述多波长光束的厚度测量结果的误差确定的，在所述阈值以上，所述多波长光束的厚度测量结果的误差小于设定值。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人北京特思迪半导体设备有限公司，其通讯地址为：101300 北京市顺义区杜杨北街3号院6号楼(顺创)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号