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龙图腾网恭喜苏州芯合半导体材料有限公司申请的专利一种改性六方氮化硼纳米片、改性六方氮化硼磨削液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119390022B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-04-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510016440.4，技术领域涉及：C01B21/064；该发明授权一种改性六方氮化硼纳米片、改性六方氮化硼磨削液及其制备方法是由洪从叶;庞吉宏设计研发完成，并于2025-01-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种改性六方氮化硼纳米片、改性六方氮化硼磨削液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种改性六方氮化硼纳米片、改性六方氮化硼磨削液及其制备方法，改性六方氮化硼纳米片为通过电解法制成的羟基化h‑BN纳米片，改性六方氮化硼磨削液包括以下质量百分比的组分：去离子水60~80%；表面活性剂Ⅱ5~15%；改性六方氮化硼纳米片5~15%；助磨剂5~15%；pH调节剂Ⅱ。本发明使用H2O2作为温和氧化剂，可在不破坏h‑BN基本结构的情况下引入羟基；电解过程不仅促进H2O2分解产生活性羟基，还有助于h‑BN的剥离；电解法可在h‑BN表面产生更均匀的羟基分布；相比球磨法，电解法可在更短时间内完成羟基化和剥离过程，避免了球磨过程中的机械损伤，保持了h‑BN纳米片的完整性，易于扩大生产。

本发明授权一种改性六方氮化硼纳米片、改性六方氮化硼磨削液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种改性六方氮化硼纳米片的制备方法，其特征在于，所述改性六方氮化硼纳米片为通过电解法制成的羟基化的h-BN纳米片；所述改性六方氮化硼纳米片的制备方法包括以下步骤：1）设计电解液所述电解液包括过氧化氢溶液；2）准备电极材料；3）设置电解条件并进行电解；4）待电解结束后，进行后处理；5）离心分离；6）用溶剂洗涤数次；7）冷冻干燥；步骤1）与步骤2）不分先后；所述电极材料包括阳极和阴极，所述阳极为高纯六方氮化硼块状电极，所述阴极为铂电极或石墨电极；所述电解条件为：电解电压：15~25V；电流密度：30~50mAcm2；电解温度：40~50℃；电解时间：1~3h；搅拌速度：300~400rpm；所述后处理的步骤为：电解结束后，将溶液冷却至室温，超声处理20~30min。

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